Tengstèn sputtering sib
2. Katalòg: pwodwi tengstèn
3. Materyèl: tengstèn
4. Pite: pi gran pase oswa egal a 99.95%
5. Dansite: 19.3 g\/cm³
6. Fòm: sib avyon, wotasyon sib, sib sputtering, kare kare, sib tib, sib Customized ak fòm iregilye.
7. Specification: Customized, pwa sib mwens pase oswa egal a 300kg\/pcs.
8. Sifas: frèt sifas woule, chimik netwaye sifas, sifas poli
9. Aplikasyon: Magnetron sputtering kouch
10. Creole: ASTM B760, GB\/T 3875-83
11. Kote ki gen orijin: Luoyang, Lachin.
Prezantasyon
Sib la sputtering tengstèn se materyèl wo-pite yo itilize nan pwosesis la sputtering, yon depo fizik depo (PVD) metòd anplwaye yo depoze fim mens sou sifas yo. Tengstèn se yon metal li te ye pou pwen segondè li yo k ap fonn (apeprè 3422 degre), dite, ak ekselan konduktiviti elektrik, fè li yon materyèl ideyal pou sputtering objektif nan endistri divès kalite, tankou elektwonik, optik, ak manifakti semi -conducteurs.
Karakteristik
Ekselan rezistans segondè-tanperati
Tengstèn gen yon pwen k ap fonn nan jiska 3422 degre, bay li ekselan rezistans segondè-tanperati. Anplis de sa, pandan pwosesis la sputtering, sib la tengstèn ka kenbe tèt ak bonbadman an nan iyon segondè-enèji ak se pa fasil defòme oswa degrade. Sa a pèmèt sib la tengstèn yo opere stabl nan gwo tanperati ak anviwònman wo-enèji.
Rezistans korozyon
Materyèl tengstèn gen bon oksidasyon ak rezistans korozyon. Nan anviwònman wo-tanperati oswa chimik, sib tengstèn sputtering ka efektivman reziste oksidasyon, asid, ak alkali korozyon, asire ke sib la kenbe bon pèfòmans pandan pwosesis sputtering miltip.
Lajè ranje nan itilizasyon
Pwodwi nou yo lajman itilize nan semi -kondiktè, optoelectronics, materyèl mayetik, ak lòt jaden. Nan endistri a semi -conducteurs, tengstèn fim mens yo te itilize nan pwosesis la metalizasyon nan sikwi entegre. Nan jaden an optik, fim tengstèn mens yo te itilize fabrike reflektè oswa materyèl kouch.
Konpozisyon pwodwi chimik
|
Tengstèn sib konpozisyon chimik |
|||||||||||||||
|
W Kontan (%) |
Kontni malpwòpte (ppm) |
||||||||||||||
|
Ti |
N |
C |
CA |
Mg |
Si |
al |
Tankou |
Fe |
NI |
Pb |
P |
CU |
/ |
/ |
|
|
Pi gran pase oswa egal a 99.95% |
Mwens pase oswa egal a 10 ppm |
Mwens pase oswa egal a 5 ppm |
Mwens pase oswa egal a 20 ppm |
Mwens pase oswa egal a 10 ppm |
Mwens pase oswa egal a 7ppm |
Mwens pase oswa egal a 10 ppm |
Mwens pase oswa egal a 5 ppm |
Mwens pase oswa egal a 10 ppm |
Mwens pase oswa egal a 10 ppm |
Mwens pase oswa egal a 6 ppm |
Mwens pase oswa egal a 1 ppm |
Mwens pase oswa egal a 8 ppm |
Mwens pase oswa egal a 5 ppm |
/ |
/ |
Paramèt pèfòmans pwodwi
|
Tengstèn sputtering paramèt pèfòmans sib |
|
|
Dimansyon echantiyon |
12mm × 80mm × 100mm |
|
Pite |
Pi gran pase oswa egal a 99.95% (3n5) |
|
Estrikti kristal |
Kib ki santre kib (BCC) |
|
Gwosè grenn |
43μm |
|
Densite |
19.25 g\/cm3 (anch) |
|
Pwen k ap fonn |
3410 degre (+ 20 degre) |
|
Pwen bouyi |
5900 degre |
|
Tèmik konduktivite |
173 W/(m·K) |
|
Konduktivite elektrik |
18.3×10-6 S/m |
|
Koyefisyan ekspansyon tèmik |
4.5×10-6/K-1 |
|
Rez nan |
Hv5: 280-310 |
|
Fini sifas |
Ra mwens pase oswa egal a 0. 4μm |
Pwosesis pwodiksyon pwodwi
Baj popilè: Tengstèn sputtering sib, Lachin Tengstèn sputtering sib manifaktirè, Swèd, faktori
Ou ka renmen tou
Voye rechèch